【新唐人北京时间2025年07月22日讯】美中科技战持续,近期中共媒体不停渲染半导体设备–光刻机,有所谓“重大突破”,但曾经担任紫光前台籍干部的业内专家薛宗智接受大纪元时报采访指出,中国业界盛行谎言,直指光刻机良率品质,要追上ASML,少说还要20年。
美中科技角力下,各国管制光刻机出口中国,近期陆媒却高调宣传,成功制作出13.5奈米的极紫外光技术,宣扬“国产EUV光刻机重大突破”,但业内人士,直接反驳。
新创公司创办人薛宗智:“全世界只有艾斯摩尔做得出来,原因很简单,就是这个专业在人家手上,EUV是所有设备里面,因为它只用在3奈米5奈米,太难了。 它要做到荷兰ASML(的程度)至少还要再20年。”
曾任台积电采购经理、前中国紫光集团高阶主管的的薛宗智指出,EUV光刻机,涉及复杂光学原理、数万种模组模型,现行仅荷兰ASML,掌握了关键数据,并与台积电、英特尔的大厂合作不断优化制程,换言之,中企的“重大突破”多数是假大空。
薛宗智:“那你想想看我们这些客人,会去买你中国的EUV吗?答案是不会。它(中企)即便是去应征了,这个美商应材离职的高管,那个品质还是不一样。”
陆企中芯国际宣称制程达7奈米,微博上疯传中芯5奈米良率,冲到60%至70%,薛宗智踢爆,中国半导体行业,到处是谎言。
薛宗智:“那当时的7奈米其实都是假的,因为我们知道它怎么做的,那良率非常差,然后那个寿命非常短。所以你只要看到它会发新闻的都是假的,因为中国(中共)的方式,喜欢敲锣打鼓,说它有多厉害。所以我每次人来问我说真的假的?我说你只要在新闻上看到都是假的。”
中国紫光集团,2015年曾来台高调要并购台积电,但公司2021破产,薛宗智日前表示,中共体制下的半导体公司,高层贪腐严重,盛行浮夸剽窃,金玉其外败絮其中,他决定离开紫光,自行创立公司,强调完全不做中国市场生意。
新唐人亚太电视综合报导