中共吹EUV光刻机获突破 专家:至少20年差距

【新唐人北京时间2025年07月24日讯】近日,中共官媒大量报导有关“中国极紫外光刻机技术有重大突破”的消息,其实是把还处于实验室阶段的成果夸大其词。专家表示,光刻机是一个微观且巨大的工程,对人才和社会制度都有非常高的要求。中国的光刻技术要想达到荷兰光刻机巨头阿斯麦的水平,可能还需要30年。

光刻机主要由光源、透镜及机台三大部分组成,光源部分尤其关键,目前的主流是艾司摩尔的LPP方案。陆媒近日报导了多种光源路线在中国实验室所谓“取得实质突破”,似乎中国产极紫外光刻机已指日可待。而专家表示,中国这类新闻基本都是假的。

台积电前采购经理薛宗智:“你只要看到他会发新闻的都是假的,因为中国的方式喜欢敲锣打鼓,说它有多厉害。”

薛宗智:“因为如果它真的有做出来,他是不会想要让你知道的。因为你让人家知道,人家就管制你,你就是自杀嘛。”

台湾国防安全研究院战略与资源所所长苏紫云:“这种是实验室性质的,所以它要到大规模的商业生产性质,还有一大段路要走。”

薛宗智:“这种从实验室做完到可以量产,有时候二十年都做不到。”

专家们强调,光刻机这种微观而巨大的精密制造系统,中共靠砸钱是做不出来的。

台湾工研院政策与区域研究组组长李冠桦:“光刻机它是一个很精密的系统,那这个精密系统里面它涵盖了关键的模组,那这些关键模组又有一些关键的零组件的一个组成。这每一步其实是要非常紧密精细的配合。”

苏紫云:“在中共这种体制之下,任何人都没有真正的安全,因为党可能随时在一党专政的情况之下,可能随时会说是泄密或是其他的安全问题,所以留不住这种真正高端的人才。”

美国智库“安全与新兴技术中心”的最新数据显示,在2019至2024年间,荷兰占据了光刻工具市场份额的79%,其次是日本占比17%。中国占比仅4%,而且只掌握了传统365奈米芯片的制造技术。

苏紫云:“在这种情况下才有业界评估,在硬体也就是光刻机的技术上,中共可能一般来讲有30年的差距。”

新唐人电视台记者张勤、易如采访报导

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