中国EUV研发难突破 高端芯片难产

【新唐人北京时间2025年05月27日讯】近日,中共央视删除了中国科技巨头华为5纳米芯片的报导,引发关注。在美国的制裁下,华为无法取得EUV光刻机生产7纳米以下的芯片。业内人士和学者披露,EUV光刻机的研发极难突破,中国至少十年都没能力制造高端芯片

5月24日,中共央视报导华为鸿蒙电脑搭载了5奈米芯片“麒麟X90”,显示华为已经突破美国的制裁,但报导不久之后就被删除,引发关注。

中国芯片大厂产品经理易先生:“我们国内最先进的制程目前是没有能力,问题在于光刻机是太难突破了,中芯国际7奈米的产能,满足华为都不够,7奈米的良率现在也就是徘徊在五成左右,做到5奈米,良率超级低。其它芯片公司一般都是在做12奈米或14奈米的,良率也不行。”

据了解,美国禁止荷兰半导体设备大厂艾司摩尔(ASML) 对中国出口EUV(极紫外光)光刻机,导致中国无法生产7奈米以下的高端芯片。2021年,中芯国际使用DUV(深紫外光)光刻机多重曝光,做出了7奈米芯片。

中国微电子博士陈尧(化名)透露,国内多所大学合作研发的EUV光刻机,至少要十年才可能问世。

中国微电子博士陈尧:“国内光刻机正尝试28奈米。现在要攻克的,在光方面,极窄带的紫外光,至少需要5年左右,之后需要高精度的研磨板跟精密机器这一块儿,至少还得再需要3到5年,之后商用还得需要至少2到3年的时间。”

由深圳市国资委投资的芯片设备大厂新凯来,今年三月底公布研发出适用于300毫米晶圆的28奈米浸润式光刻机。化名王耀的华为前工程师透露,国企贪腐严重,所以当年他没去新凯来。

中国半导体大厂工程师王耀:“这几次制裁已经让华为放弃了所有的幻想。2020年,新凯来刚成立的时候,就是华为内部调人的,只要你愿意去,直接跟国家签合同,一签就是签8年,由国家来出钱养这批人。”

美国针对中国半导体行业,去年底,将140家中国公司列入贸易黑名单。今年3月再增加54家;4月又禁止辉达出售AI芯片H20给中国。

王耀:“只要做半导体,它都必须得考虑这些风险,我现在在另外一家,它的半导体也是上到清单了,芯片现在拿不到了,库存都快干没了呀,搞计算中心有风险的。”

新唐人电视台记者熊斌、高玉采访报导

 

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